微納電子器件性能測(cè)試平臺(tái)
型號(hào)：B1500A
主要用于對(duì)微納電子器件進(jìn)行全面的電氣性能分析。該平臺(tái)由半導(dǎo)體參數(shù)分析儀、高低溫真空探針臺(tái)和分子泵組成，具備多種功能，可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、材料科學(xué)和電子工程等領(lǐng)域。
半導(dǎo)體參數(shù)分析儀是該平臺(tái)的核心組件，能夠精確測(cè)量器件的電流、電壓和電容特性，提供全面的電氣性能數(shù)據(jù)，幫助研究人員評(píng)估器件的性能和可靠性。高低溫真空探針臺(tái)允許在極端溫度和真空環(huán)境下進(jìn)行測(cè)試，使研究人員能夠研究器件在不同溫度和氣氛下的行為，深入了解材料的物理特性和器件性能。分子泵則確保系統(tǒng)內(nèi)部環(huán)境的高真空狀態(tài)，減少氣體分子的干擾，確保測(cè)試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和重復(fù)性。
器件電流波形分析儀
型號(hào)：CX3322A
其主要功能是捕捉和分析電子器件和電路中的瞬態(tài)電流和低電流波形，提供高分辨率和高靈敏度的數(shù)據(jù)。
多模式掃描探針顯微鏡
型號(hào)：CSPM5000
該顯微鏡的主要功能是通過(guò)掃描探針技術(shù)以納米級(jí)分辨率對(duì)樣品表面進(jìn)行成像和分析，能夠在多種模式下工作，如原子力顯微鏡（AFM）模式、掃描隧道顯微鏡（STM）模式等
電路板刻制機(jī)
型號(hào)：ProtoMat S63
主要用于快速、精確地制作電路板。這種設(shè)備在實(shí)驗(yàn)室中發(fā)揮重要作用，可以幫助學(xué)生將電子設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)化為實(shí)際產(chǎn)品，提高學(xué)生的實(shí)踐技能。學(xué)生通過(guò)使用電路板刻制機(jī)，可以學(xué)習(xí)電路板的設(shè)計(jì)與制造過(guò)程，增強(qiáng)動(dòng)手能力，掌握先進(jìn)的技術(shù)。同時(shí)，該設(shè)備還為學(xué)生的課程設(shè)計(jì)和畢業(yè)項(xiàng)目提供了實(shí)際操作的平臺(tái)，促進(jìn)學(xué)生將理論知識(shí)應(yīng)用于實(shí)際工程項(xiàng)目，提升綜合素質(zhì)和就業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。
高精度冷熱臺(tái)
型號(hào)：HCPP621VG
其主要功能是精確控制樣品的溫度，能夠在廣泛的溫度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高精度的加熱和冷卻。該設(shè)備在科研中的用途十分廣泛，特別是在材料科學(xué)、物理學(xué)和生物學(xué)等領(lǐng)域。研究人員可以利用高精度冷熱臺(tái)對(duì)樣品進(jìn)行溫度變化實(shí)驗(yàn)，觀(guān)察材料在不同溫度條件下的物理、化學(xué)性質(zhì)變化。
電化學(xué)工作站
型號(hào)：CompactStat.h10800
主要用于電化學(xué)研究和分析。該設(shè)備能夠精確測(cè)量電化學(xué)信號(hào)，幫助研究人員研究各種電化學(xué)過(guò)程和材料的電化學(xué)性質(zhì)。其主要功能包括循環(huán)伏安法、電化學(xué)阻抗譜、電流-電位曲線(xiàn)等測(cè)試方法，可以廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、化學(xué)、環(huán)境科學(xué)和能源研究等領(lǐng)域。在材料科學(xué)中，電化學(xué)工作站可以用于研究電極材料的電化學(xué)性能。
精密阻抗分析儀
型號(hào)：E4980A
主要用于測(cè)量材料和電子元件的電氣特性。該設(shè)備能夠在寬頻率范圍內(nèi)精確測(cè)量阻抗、電容、電感等參數(shù)，其高精度和穩(wěn)定性使其在多種科研應(yīng)用中不可或缺。在材料科學(xué)領(lǐng)域，研究人員利用E4980A分析材料的電氣性能，如介電常數(shù)和電導(dǎo)率，從而了解材料在不同頻率和溫度下的行為特性。在電子工程中，該設(shè)備用于測(cè)試和驗(yàn)證電容器、電感器、濾波器等元件的性能，確保其在電路中的可靠運(yùn)行。
高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)
型號(hào)：JCP-350M3
其主要功能是通過(guò)磁控濺射技術(shù)在基底材料上沉積薄膜，能夠在高真空環(huán)境下實(shí)現(xiàn)多種靶材的高效鍍膜。該設(shè)備在科研中的用途非常廣泛，尤其是在新材料開(kāi)發(fā)、表面工程、半導(dǎo)體器件制造和納米技術(shù)研究等領(lǐng)域。研究人員可以利用JCP-350M3制備高質(zhì)量的金屬、合金、陶瓷和復(fù)合材料薄膜，研究這些薄膜的物理和化學(xué)性質(zhì)，例如光學(xué)、電學(xué)、機(jī)械性能等。高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)的多靶位設(shè)計(jì)允許在同一基底上沉積不同材料的多層薄膜，或進(jìn)行合金薄膜的共濺射，從而實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)和高性能材料的制備。
