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儀器設(shè)備

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儀器設(shè)備

發(fā)布時間:2024-10-10

微納電子器件性能測試平臺

型號:B1500A

主要用于對微納電子器件進行全面的電氣性能分析,。該平臺由半導(dǎo)體參數(shù)分析儀,、高低溫真空探針臺和分子泵組成,具備多種功能,,可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體,、材料科學(xué)和電子工程等領(lǐng)域。

半導(dǎo)體參數(shù)分析儀是該平臺的核心組件,,能夠精確測量器件的電流,、電壓和電容特性,提供全面的電氣性能數(shù)據(jù),,幫助研究人員評估器件的性能和可靠性,。高低溫真空探針臺允許在極端溫度和真空環(huán)境下進行測試,使研究人員能夠研究器件在不同溫度和氣氛下的行為,,深入了解材料的物理特性和器件性能,。分子泵則確保系統(tǒng)內(nèi)部環(huán)境的高真空狀態(tài),減少氣體分子的干擾,,確保測試數(shù)據(jù)的準確性和重復(fù)性,。

 

 

 

 

 

器件電流波形分析儀

型號:CX3322A

其主要功能是捕捉和分析電子器件和電路中的瞬態(tài)電流和低電流波形,提供高分辨率和高靈敏度的數(shù)據(jù),。

 

 

 

 

 

 

多模式掃描探針顯微鏡

型號:CSPM5000

該顯微鏡的主要功能是通過掃描探針技術(shù)以納米級分辨率對樣品表面進行成像和分析,,能夠在多種模式下工作,如原子力顯微鏡(AFM)模式,、掃描隧道顯微鏡(STM)模式等

 

 

 

 

 

 

電路板刻制機

型號:ProtoMat S63

主要用于快速,、精確地制作電路板。這種設(shè)備在實驗室中發(fā)揮重要作用,,可以幫助學(xué)生將電子設(shè)計轉(zhuǎn)化為實際產(chǎn)品,,提高學(xué)生的實踐技能。學(xué)生通過使用電路板刻制機,,可以學(xué)習(xí)電路板的設(shè)計與制造過程,,增強動手能力,,掌握先進的技術(shù)。同時,,該設(shè)備還為學(xué)生的課程設(shè)計和畢業(yè)項目提供了實際操作的平臺,促進學(xué)生將理論知識應(yīng)用于實際工程項目,,提升綜合素質(zhì)和就業(yè)競爭力,。

 

 

 

 

高精度冷熱臺

型號:HCPP621VG

其主要功能是精確控制樣品的溫度,能夠在廣泛的溫度范圍內(nèi)實現(xiàn)高精度的加熱和冷卻,。該設(shè)備在科研中的用途十分廣泛,,特別是在材料科學(xué)、物理學(xué)和生物學(xué)等領(lǐng)域,。研究人員可以利用高精度冷熱臺對樣品進行溫度變化實驗,,觀察材料在不同溫度條件下的物理、化學(xué)性質(zhì)變化,。

 

 

 

 

 

電化學(xué)工作站

型號:CompactStat.h10800

主要用于電化學(xué)研究和分析,。該設(shè)備能夠精確測量電化學(xué)信號,幫助研究人員研究各種電化學(xué)過程和材料的電化學(xué)性質(zhì),。其主要功能包括循環(huán)伏安法,、電化學(xué)阻抗譜、電流-電位曲線等測試方法,,可以廣泛應(yīng)用于材料科學(xué),、化學(xué)、環(huán)境科學(xué)和能源研究等領(lǐng)域,。在材料科學(xué)中,,電化學(xué)工作站可以用于研究電極材料的電化學(xué)性能

 

 

 

精密阻抗分析儀

型號:E4980A

主要用于測量材料和電子元件的電氣特性,。該設(shè)備能夠在寬頻率范圍內(nèi)精確測量阻抗,、電容、電感等參數(shù),,其高精度和穩(wěn)定性使其在多種科研應(yīng)用中不可或缺,。在材料科學(xué)領(lǐng)域,研究人員利用E4980A分析材料的電氣性能,,如介電常數(shù)和電導(dǎo)率,,從而了解材料在不同頻率和溫度下的行為特性。在電子工程中,,該設(shè)備用于測試和驗證電容器,、電感器、濾波器等元件的性能,,確保其在電路中的可靠運行,。

 

 

高真空多靶磁控濺射鍍膜機

型號:JCP-350M3

其主要功能是通過磁控濺射技術(shù)在基底材料上沉積薄膜,,能夠在高真空環(huán)境下實現(xiàn)多種靶材的高效鍍膜。該設(shè)備在科研中的用途非常廣泛,,尤其是在新材料開發(fā),、表面工程、半導(dǎo)體器件制造和納米技術(shù)研究等領(lǐng)域,。研究人員可以利用JCP-350M3制備高質(zhì)量的金屬,、合金、陶瓷和復(fù)合材料薄膜,,研究這些薄膜的物理和化學(xué)性質(zhì),,例如光學(xué)、電學(xué),、機械性能等,。高真空多靶磁控濺射鍍膜機的多靶位設(shè)計允許在同一基底上沉積不同材料的多層薄膜,或進行合金薄膜的共濺射,,從而實現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)和高性能材料的制備,。