研究方向
- 研究方向一:光電材料與器件
更新時(shí)間:2020年12月15日
研究領(lǐng)域:第三代半導(dǎo)體材料,,超快超低功耗二維光電材料,,半導(dǎo)體芯片激光高精切割,,半導(dǎo)體微...
- 研究方向二:先進(jìn)光學(xué)檢測(cè)與成像
更新時(shí)間:2020年12月15日
研究領(lǐng)域:光譜測(cè)量,、偏振成像、三維檢測(cè),、光學(xué)投影層析成像,、激光散斑成像特色與優(yōu)勢(shì):本方...
- 研究方向三:非線性光場(chǎng)調(diào)控
更新時(shí)間:2020年12月15日
研究領(lǐng)域:非線性光場(chǎng)、激光技術(shù),、量子信息
特色與優(yōu)勢(shì):本方向通過研究非線性光學(xué)手...
版權(quán)所有 物理與光電工程學(xué)院